第36章 畅想光刻厂，剑斩asml

光刻厂？

难道不是大量光刻机一起工作运行的厂房吗？

刚听到这个名词的时候，周振威教授脑海里下意识的就浮现出一个场景。

但很明显，李昊的语气中表达的，肯定是与传统意义上的“光刻广”截然不同。

“说说你的想法！”周振威兴趣来了。

李昊从笔记本电脑上调出一份三维设计图。

周振威凑过去一看，只见屏幕上显示的是一座占地庞大的工业建筑群。

中央贏立著数个环形结构，周围分布著密密麻麻的辅助设施。

“传统光刻机是把所有功能集成在一个箱子里，而我的方案是把整个晶片製造流程拆解成独立的模块，每个模块占据一个厂房。”李昊指著屏幕解释道，“就像把一台精密手錶拆成零件，每个零件单独製造再组装。”

“这应该是粒子加速器的结构吧？”周振威有些狐疑。

“没错！”李昊把核心圈了出来，“光刻厂的核心是利用粒子加速器產生高能粒子束，通过特殊的转换装置，將其转化为极紫外光。”

“极紫外光您应该知道，这是光刻机巨头asml刚刚提出的一种全新雷射方案。”

“而经过我的演算判定，他们的眼光还挺不错的，极紫外光確实非常適合应用到光刻机上。”

“它的波长极短，能够实现更精细的光刻製程。”

“而我的方案，就是同步辐射光源替代euv雷射，通过电子储存环產生稳定高能的极紫外光。”

“一个环可以供应十条以上光刻產线，单瓦光子成本应该只有euv方案的百分之一！”

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“按照预估，asml的euv方案理论上可以做到每小时加工400-500片晶圆，就算为了稳定最少也能加工200片晶圆以上。”

“当然，这种方案的能耗不小，一小时差不多就要用掉1200多度电。”

“而光刻厂呢，一个环带十条產线，每小时可处理30000片左右，预计总电耗不过才1500度左右。”

周教授的呼吸明显急促起来，他颤抖著手指划过那些参数：“这亮度这稳定性.”

“同步辐射光源的波长覆盖0.1-100纳米，可以轻鬆满足5nm及以下製程需求。”李昊继续放大设计图，“关键是所有设备都可以做到国產，比如真空腔体、镀膜反射镜等关键设备。”

周教授突然抓住李昊的肩膀：“你知道这意味著什么吗？这相当於把晶片製造从『手工作坊'升级成『现代化工厂『！等等”他突然想到什么，“掩模问题怎么解决？这么高能量密度“双层动態掩模。”李昊调出新图纸，“底层用常规石英掩模，上层加装等离子体柵格。通过电磁场实时调节透光率，既保护掩模又能实现灰度曝光，一举解决传统光源的隨机噪声问题。”

周教授倒退两步跌坐在椅子上，白大褂后背已经汗湿一片。

作为业內专家，他太清楚这套方案的顛覆性。

这完全跳出了西方主导的技术路线，开创了全新的半导体製造范式！

“造价呢？”周教授声音发乾，“这样一个...：..光刻厂要多少投入？”

“首期投资约50亿。”李昊的回答让周教授刚端起的茶杯又放了回去，“但建成后月產能相当於150台euv光刻机，平摊到每片晶圆的设备成本只有现在的三十分之一。”

窗外泛起鱼肚白时，周教授已经记满了三个笔记本。

他望著初升的朝阳，突然老泪纵横：“二十年了-我们终於等到这一天...”

“李昊啊，你这个构想简直是天才之作！有了光刻厂，我们大夏的半导体產业必將迎来质的飞跃，彻底摆脱国外的技术封锁指日可待啊！”

李昊非常理解他的心情，不过现在还没到感慨的时候。

有太多的事情，需要马上处理。